Главная » 2014»Июль»18 » Скачать Формирование фотографических характеристик фотослоев на основе микрокристаллов галогенидов серебра гетероконтактного типа. бесплатно
0:55 AM
Скачать Формирование фотографических характеристик фотослоев на основе микрокристаллов галогенидов серебра гетероконтактного типа. бесплатно
Формирование фотографических характеристик фотослоев на основе микрокристаллов галогенидов серебра гетероконтактного типа
Диссертация
Автор: Кожухова, Татьяна Юрьевна
Название: Формирование фотографических характеристик фотослоев на основе микрокристаллов галогенидов серебра гетероконтактного типа
Справка: Кожухова, Татьяна Юрьевна. Формирование фотографических характеристик фотослоев на основе микрокристаллов галогенидов серебра гетероконтактного типа : диссертация кандидата химических наук : 02.00.04 Кемерово, 2003 150 c. : 61 04-2/130-4
Объем: 150 стр.
Информация: Кемерово, 2003
Содержание:
СПИСОК УСЛОВНЫХ СОКРАЩЕНИЙ
ВВЕДЕНИЕ
ГЛАВА 1 ЛИТЕРАТУРНЫЙ ОБЗОР
11 СИНТЕЗ МИКРОКРИСТАЛЛОВ ГЕТЕРОКОНТАКТНОГО ТИПА
111Структура кристаллов
112Структура и свойства плоских микрокристаллов
1121 Механизмы образования и роста плоских микрокристаллов
1122 Диффузионный механизм
1123 Коалесцентный механизм
1124 Влияние различных факторов на кинетику роста плоских микрокристаллов
113 Микрокристаллы сложной структуры
1131 Микрокристаллы эпитаксиального типа
1132 Микрокристаллы типа «ядро - оболочка»
12 ХИМИЧЕСКАЯ СЕНСИБИЛИЗАЦИЯ ГЕТЕРОКОНТАКТНЫХ
СИСТЕМ
121 Типы химической сенсибилизации
122Химическая сенсибилизация МК типа «ядро-оболочка»
123Химическая сенсибилизация эпитаксиальных систем
13 СПЕКТРАЛЬНАЯ СЕНСИБИЛИЗАЦИЯ ГЕТЕРОКОНТАКТНЫХ
СИСТЕМ
131Механизмы спектральной сенсибилизации
132Десенсибилизация галогенидов серебра красителями
133Сенсибилизация красителями ПМК с эпитаксами и типа «ядрооболочка»
ГЛАВА 2МЕТОДЫ И МЕТОДИКИ ЭКСПЕРИМЕНТОВ
21 СИНТЕЗ ФОТОГРАФИЧЕСКИХ ЭМУЛЬСИЙ
211Синтез фотографических эмульсий методом контролируемой двухструйной кристаллизации
212Турбидиметрический метод определения размера МЗЭ
213Синтез ПМК методом физического созревания
214Турбидиметрическое определение зависимости оптической плотности от времени созревания
215Расчет констант скорости роста плоских микрокристаллов
216Дисперсионный и гранулометрический анализ
22СИНТЕЗ ПЛОСКИХ МИКРОКРИСТАЛЛОВ ГЕТЕРОКОНТАКТ
НОГОТИПА
221Плоские микрокристаллы с эпитаксами
222ПМК AgBr с латеральной оболочкой AgBro,96lo,o4
23 ХИМИЧЕСКАЯ СЕНСИБИЛИЗАЦИЯ
24СПЕКТРАЛЬНАЯ СЕНСИБИЛИЗАЦИЯ
25СЕНСИТОМЕТРИЧЕСКИЕ ИСПЫТАНИЯ
26ИСПОЛБЗУЕМЫЕ РЕАКТИВЫ
ГЛАВА 3ПОЛУЧЕНИЕ ОДНОРОДНЫХ ПЛОСКИХ МИКРОКРИСТАЛЛОВ AgBr В ПРИСУТСТВИИ ДИМЕТИЛСУЛЬФОНА
31Постановка задачи
32Влияние диметилсульфона, введенного при ФС
33Исследование роста ПМК из мелкозернистой эмульсии с различным содержанием диметилсульфона
34Химическая сенсибилизация исследуемых систем
ГЛАВА 4ХИМИЧЕСКАЯ СЕНСИБИЛИЗАЦИЯ ГЕТЕРОКОНТАКТ НЫХ СИСТЕМ
41Влияние различных факторов на процесс химической сенсибили зации ПМК AgBr с эпитаксами AgCl 411 Постановка задачи
412Объекты исследования
413 Химическая сенсибилизация эпитаксиальных систем
414Влияние температуры на фотографические характеристики эпитаксиальных систем
415Влияние различных концентраций химических сенсибилизаторов
42Влияние желатины и тиоцианата калия на фотографические характеристики ПМК с латеральной оболочкой, полученных при одновременном синтезе оболочки и химической сенсибилизации
Ф 421Постановка задачи
4220бъекты исследования
423 Влияние различных концентраций желатины и KSCN на фотографические характеристики ПМК AgBr с латеральной оболочкой AgBr0>96lo,o4- • •
ГЛАВА 5СПЕКТРАЛЬНАЯ СЕНСИБИЛИЗАЦИЯ ГЕТЕРОКОНТАКТ-НЫХ СИСТЕМ
51Спектральная сенсибилизация ПМК AgBr/AgBr0(96lo,o4
511 Проведение спектральной сенсибилизации после химической
512Проведение спектральной сенсибилизации перед химической
513Спектры отражения адсорбированных красителей
514Изучение спектральной чувствительности фотослоев
52Спектральная сенсибилизация эпитаксиальных систем
521Сенсибилизация красителями плоских микрокристаллов AgBr с угловыми эпитаксами AgCl
522Спектры отражения адсорбированных красителей
523Изучение спектральной чувствительности фотослоев
ВЫВОДЫ
Введение:
Актуальность проблемы. В настоящее время высокочувствительные галогенсеребряные фотографические материалы создаются на основе микрокристаллов сложной структуры, состава и форм. В частности, они представляют собой микрокристаллы гетероконтактного типа, состоящие из двух или более частей: субстрата или ядра, состава AgBr или AgBrI и фазы другого га-логенидного состава AgBrCl, AgCl (эпитаксы) или AgBrxIi.x (латеральные оболочки).
Процесс кристаллизации плоских микрокристаллов и микрокристаллов гетероконтактного типа достаточно хорошо изучен, но имеются и нерешенные проблемы. Например, достаточно сложно получить однородные по размеру и форме ПМК, являющиеся в дальнейшем субстратом или ядровой эмульсией для получения сложных структур. При хранении плоских микрокристаллов с латеральной оболочкой, полученных традиционным способом (физическим созреванием с последующей химической сенсибилизацией), происходит уменьшение фотографического отклика за счет снижения оптической плотности почернения при высоких экспозициях, что не позволяет использовать систему с максимальным эффектом. На этапе предварительных экспериментов показано, что получение гетероконтактной системы при одновременном синтезе оболочки и химической сенсибилизации приводит к увеличению фотографических характеристик в 1,5раза. Но детальные исследования такого способа получения фотографических материалов на основе ПМК с латеральной оболочкой не проводились.
Формирование фотохимических свойств в микрокристаллах галогенида серебра происходит на всех стадиях изготовления высокочувствительного фотографического материала. Наиболее важными стадиями для эффективного формирования поверхностных центров светочувствительности являются химическая и спектральная сенсибилизации. Если химическая сенсибилизация плоских микрокристаллов с латеральными оболочками достаточно хорошо изучена, то сведения по изучению спектральной сенсибилизации отсутствуют. В литературе встречаются данные и по химической и по спектральной сенсибилизации плоских микрокристаллов с эпитаксами, но в основном это патентная литература, и условия получения высокочувствительных эмульсий являются секретом фирм (Kodak, AGFA Gerwaert, Fuji Film Co.).
Настоящая работа посвящена изучению влияния условий синтеза, температуры химической сенсибилизации, концентраций модификаторов и сенсибилизаторов на фотографические характеристики плоских микрокристаллов гетероконтактного типа и фотослоев на их основе.
Цель работы - исследование возможности создания ядровых ПМК для получения гетерогенных структур с заданными дисперсионными и гранулометрическими характеристиками в присутствии диметилсульфона. Исследование химической и спектральной сенсибилизации эмульсий, содержащих ПМК гетероконтактного типа, и оптимизация фотографических характеристик фотослоев на их основе. Для достижения цели были поставлены и решены следующие задачи:
1) исследовать процесс получения однородных ядровых ПМК в присутствии диметилсульфона;
2) исследовать особенности химической сенсибилизации фотографических эмульсий на основе ПМК эпитаксиального типа;
3) изучить влияние тиоцианата калия и желатины на процесс формирования фотографических свойств эмульсий на основе плоских микрокристаллов с латеральной оболочкой, при одновременном проведении синтеза оболочки и химической сенсибилизации;
4) исследовать особенности спектральной сенсибилизации фотографических эмульсий на основе плоских микрокристаллов гетероконтактного типа.
Научная новизна
1. На основе полученных экспериментальных результатов определено влияние диметилсульфона на рост плоских микрокристаллов AgBr при добавлении перед синтезом мелкозернистой эмульсии и физическим созреванием плоских микрокристаллов.
2. На основании экспериментально полученных зависимостей светочувствительности и оптической плотности вуали от продолжительности химической сенсибилизации фотографических эмульсий на основе плоских микрокристаллов с эпитаксами определены оптимальные условия химической сенсибилизации.
3. Получены зависимости светочувствительности, коэффициента контрастности и оптической плотности вуали от продолжительности химической сенсибилизации фотографических эмульсий на основе плоских микрокристаллов с латеральной оболочкой, полученных при одновременном проведении синтеза оболочки и химической сенсибилизации, с различными количествами тиоцианата калия и желатины, как на стадии синтеза, так и на стадии химической сенсибилизации.
4. Получены зависимости спектральной чувствительности от характера адсорбции красителя на поверхности плоских микрокристаллов гетерокон-тактного типа. Показано, что максимальная светочувствительность связана с образованием J-агрегатов красителя.
Показано, что эффект десенсибилизации, наблюдающийся в собственной области поглощения спектрально-сенсибилизированных плоских микрокристаллов с латеральной оболочкой, исследованными мероцианиновыми красителями возможно устранить, если спектральную сенсибилизацию проводить перед химической сенсибилизацией.
Результаты и положения, выносимые на защиту
1. Экспериментально определенные константы скорости роста плоских микрокристаллов AgBr, получаемых при созревании мелкозернистой эмульсии с добавлением диметилсульфона перед синтезом и перед физическим созреванием, и оптимальные условия роста ПМК в присутствии диметилсульфона.
2. Возможность использования диметилсульфона без снижения светочувствительности плоских микрокристаллов AgBr.
3. Кинетические зависимости химической сенсибилизации фотографических эмульсий, содержащих плоские микрокристаллы AgBr с эпитаксами
AgCl, при введении различных концентраций химических сенсибилизаторов и различных температурах.
4. Условия проведения химической и спектральной сенсибилизации плоских микрокристаллов гетероконтактного типа (плоские микрокристаллы AgBr с латеральной оболочкой AgBr0,96lo,o4 и плоские микрокристаллы AgBr с эпитаксами AgCl).
Практическая значимость. Полученные в работе данные могут быть использованы для создания высокочувствительных фотографических материалов на основе плоских микрокристаллов AgBr с эпитаксами AgCl и плоских микрокристаллов AgBr с латеральной оболочкой AgBr0,96lo,o4- Работа проводилась в соответствии с х/д НИР и НИОКР, «Слюда», «Бирюза-К», «Сереж
УК», «Есаул», «Есаул-К» в период с 2000 по 2003 гг.
Публикации. По теме диссертации имеется 12 публикаций.
Апробация работы. Основные результаты докладывались на областной научной конференции "Молодые ученые Кузбассу. Взгляд в XXI век" (г.Кемерово, 2001г.); на XXXIX Международной научной студенческой конференции "Студент и научно-технический прогресс" (г.Новосибирск, 2001г.); на Международной конференции "Физико-химические процессы в неорганических материалах" (г.Кемерово, 2001г.); на Международной конференции студентов и аспирантов по фундаментальным наукам "Ломоносов-2002" (г.Москва, 2002г.); на XXX апрельской конференции молодых ученых КемГУ (г.Кемерово, 2003г.).
Структура и объем диссертации. Диссертация состоит из введения, пяти глав, выводов и списка цитируемой литературы, включающего 115 работ отечественных и зарубежных авторов. Содержит 150 страниц машинописного текста, в том числе 63 рисунка и 17 таблиц.
